ASML, крупный производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, заявил о поставке первой из своих новых систем литографии в экстремальном ультрафиолете (High NA EUV) компании Intel.
Литографические машины на базе технологии High NA EUV размером с грузовик и стоимостью более 300 млн. евро каждая помогут ведущим производителям микросхем производить более качественные чипы, основываясь на меньших техпроцессах. В частности, данные станки позволят производить чипы по технологии 2 нм. На данное время Intel, TSMC, Samsung и производители микросхем памяти SK Hynix и Micron используют текущее оборудование ASML для литографии в экстремальном ультрафиолете. Такие машины по размеру сравнимы с автобусом и стоят более 200 млн. евро.
Станки High NA EUV поставляются в 250 отдельных ящиках, включая 13 больших контейнеров. Ожидается, что они будут использоваться в коммерческом производстве чипов, начиная с 2026 или 2027 года. На следующий год плановая производственная мощность ASML составляет всего 10 единиц, а Intel уже заказал 6 из них. В ближайшие несколько лет компания планирует увеличить мощность производства до 20 единиц в год.
