В прошлом месяце компания Canon представила коммерческую установку FPA-1200NZ2C, которая позволяет производить 5-нм чипы. В ней используется подход, альтернативный обычной фотолитографии – в основе лежит принцип наноимпринт-литографии.
Оборудование предназначено для создания сравнительно небольших партий чипов, и не может претендовать на соперничество с системами ASML в массовом производстве. Новая технология предоставит возможность небольшим компаниям производить передовые чипы, сказал генеральный директор Canon Фудзио Митараи (Fujio Mitarai). Он заявил, что такое оборудование будет примерно в десять раз дешевле систем для выпуска 5-нм чипов от ASML, а также будет потреблять в десять раз меньше электроэнергии, что немаловажно.
Компания ASML является единственным поставщиком инструментов для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV), самых передовых в мире машин для изготовления чипов. Стоимость каждой такой машины составляет сотни миллионов долларов.
ASML запрещено экспортировать системы EUV китайским клиентам после давления США на своих союзников с целью ограничить потоки технологий в Пекин. Санкции японских властей против Китая, которые действуют с июля этого года, оборудование для нанопечати чипов напрямую не упоминают. Но, по словам Митараи, Canon, возможно, не сможет поставлять машины в Китай: «Насколько я понимаю, экспорт всего, что выходит за рамки 14-нанометровой технологии, запрещен, поэтому я не думаю, что мы сможем продавать эти машины в Китай».
