Компания Canon представила коммерческую установку под обозначением FPA-1200NZ2C, которая позволяет производить 5-нм чипы.
В решении используется подход, альтернативный обычной фотолитографии. В основе FPA-1200NZ2C лежит принцип наноимпринт-литографии: вместо фотошаблона как в классической оптической литографии используется штамп с нанорельефом. А нанорельеф, в свою очередь, служит для формирования маски из слоя полимера на поверхности полупроводниковой подложки. Canon заявляет, что такая технология проще, экологичнее и дешевле.
Компания намерена совершенствовать и развивать систему, поэтому в будущем она сможет служить для производства 2-нм чипов.
Ранее SK Hynix и Kioxia пытались реализовать аналогичную технологию, но проведенные тесты выявили высокий уровень брака, и компании отказались от дальнейшей разработки.
